关于集成电路布图设计侵权的判定方法，可以参考著作权法对作品保护的判定原则。由于集成电路布图设计表现形式近似于著作权对产品设计图的规定，《条例》也规定对布图设计的保护不及于设计原理，主要保护的是布图设计的表现形式。因此，它与专利对产品设计的结构及连接方式需要考虑设计原理不同，更接近于作品的表现形式。故应以著作权对作品的剽窃原则(“接触”+“实质性相似”)进行判断。在判定双方芯片是否实质相同时，考虑到毕竟世界上两个布图设计完全相同的概率微乎其微，因此在比对时应当首先确定权利人布图设计的独创性部分，其次考虑被告是否有实际接触或者接触布图设计的可能。在对比独创部分的一致性比例(又称“近似度”)这一问题上，建议结合鉴定报告书并参考计算机软件侵权判定的对比原则来具体认定。

一、集成电路布图设计独创性判断标准

我国《条例》对集成电路布图设计独创性有专门规定，受保护的布图设计应当具有独创性，即布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。由此可知，集成电路布图设计的独创性要求包含两个内涵，一是布图设计应当是设计者自己创造：一是布图应为该领域的非常规设计。对于非常规设计的判断属技术层面的经验性问题，一般很难列出详细的判断原则和方法。但可以确定的是，这种非常规的要件即创造性的要求并不追求专利法中的非显而易见的发明跨度，而只要求比常规设计一定进步的差异性。因此，掌握集成电路布图设计是否为独立创作和是否具有创造性的判断方法，就可以应对审查和司法审判中的问题。

关于独立创作的判断，理论界多数主张采用著作权法中的“接触”和“实质相似”的判断方法。也就是说，判断集成电路布图设计为独立创作的前提必须是原告提出有接触的证据存在，或者至少证明存在接触的可能性，只有在对接触进行认定之后，才应当进行实质相似的判断。对于创造性的判断，则主要是基于两个因素的考虑，一是判断保护的是集成电路布图设计思想的表达，另一方面，判断集成电路布图设计是否具有工业应用性。

完全独立创作布图设计的基本要求是原创性或首创性，即不是抄袭和模仿得来的。具体来说，判断的第一步要看被控侵权的布图设计能否被证明是通过创作者的辛苦和努力而获得的。也就是说，如果被控侵权人不能证明其在创作过程中花费了十分的艰辛和巨大的投入，或者说虽可以证明其付出了辛苦和努力，但不能证明其完成布图设计不是通过复制得来的，那么也可以判断该布图设计不是独立创作。相反，如果被告能够证明其创作过程是经过了自己的辛苦付出和努力而获得，则应当属于独立创作。第二步要看布图设计中所包含的布图元素是否为常见或常用的。如果答案是肯定，则可以判断该布图设计与其他布图设计实质相似，不具有创造性，否则，具有创造性；

第三步尽管被告能够证明其在创作布图设计的过程中付出了艰辛的努力和投入，并且布图设计中的元素非常见或常用的，但是还要看其被控布图设计与原布图设计是否确实不同。该步骤的具体判断依据本文己在实质性相似的侵权判断标准中详述。

综上所述，对集成电路布图设计专有权独创性的判断方法必须结合集成电路布图设计独创性的内涵与实质性相似判断标准的综合分析方法，只有这样才能使其判断在尽可能客观和标准化的同时，具有良好的操作性，从而实现对集成电路布图设计独创性判断的客观和公正。

二、集成电路布图设计实质相似判断标准

实践中的判断很大程度上只能依赖于专家、证人、以及法官的主观判断。通过对美国相关司法判例的借鉴，并结合我国的实情，对集成电路布图设计实质性相似的判断标准可以归纳为如下三个方面：

第一、判断集成电路功能是否不同

虽然集成电路布图设计工艺不断提高，其内部构造和布局也越来越复杂，但判断被诉集成电路布图设计与原告的设计之间是否存在实质性差异只需首先判断所涉芯片的功能是否不同。具体可将测试芯片置于相同的测试平台，若芯片被输入相同测试信号后，输出相同的信号，则证明被测芯片实质功能相同，构成侵权;否则，不构成侵权。

第二、判断集成电路布图设计布局是否不同

这需要从集成电路布图设计中元器件的大小、形状和摆放位置等综合性元素上进行判断，既要从宏观组合量上来分析，又要从微观布局上来比较。借鉴集成电路专业人士的判断，若被诉的布图设计与原告的设计在这些方面存在不同，即使两个布图设计中只有极少部分不同，也不是实质相似，不构成侵权。

第三、判断集成电路布图设计核心部分是否不同

对于集成电路布图设计的核心部分的界定，主要看其是否能在设计中完成独立的功能，能否独立广泛使用。对于这一部分的判断就不能以元器件的布局和摆放等元素标准来判断，也就是说，对于布图设计的核心部分只要被复制了，即使其在整个布图设计中所占比例非常小，也构成侵权。